دوره 4، شماره 2 - ( مهر 1384 )                   جلد 4 شماره 2 صفحات 15-9 | برگشت به فهرست نسخه ها

XML Print


Download citation:
BibTeX | RIS | EndNote | Medlars | ProCite | Reference Manager | RefWorks
Send citation to:

افشارپاد میترا ، قبادی احسان ، توتونچی سروناز ، عسگری مسعود ، افشارپاد ماندانا ، علی ‌نقی زاده محمدرضا . بررسی تاثیر تابش لیزر کم توان هلیوم – نئون (8/632 نانومتر) بر میزان رد پیوند پوستی. فصلنامه علمی پژوهشی لیزر در پزشکی. 1384; 4 (2) :9-15

URL: http://icml.ir/article-1-9-fa.html


چکیده:   (18311 مشاهده)
هدف: رد مزمن پیوند یک روند ایمونولوژیک است که در دسته واکنش‌های حساسیت تاخیری نوع IV دسته بندی می‌شود و اصلی‌ترین فاکتور شناخته شده در این روند سلولهای لنفوسیتی TCD 8+ و لنفوکاینهای مترشحه از لنفوسیتها می‌باشند. با توجه به اثرات مدولاتوری سیستم ایمنی، لیزرهای کم توان شاید بتوان از این اثر در کاهش سطح این لنفوکاینها و ممانعت از رد استفاده کرد.روش بررسی: در شرایط استریل پوست از پشت موش MNL به پشت موش BALB/c پیوند شد و ‌به دو گروه مورد و شاهد تقسیم شدند. موشهای گروه مورد‌ روزانه تحت تابش لیزر کم توان هلیم - نئون (8/632 نانومتر و J/cm2 4) به مدت 14 روز قرار گرفتند. بررسی ماکروسکوپی و میکروسکوپی در روزهای 3 ،5 ،10 و 15 انجام شد.یافته‌ها: نتایج در جداول 1 تا 9 آورده شده اند که از این بین تنها ضخیم شدگی اپیذرم در گروه case به گونه significant از گروه کنترل بیشتر بود.نتیجه‌گیری: شاید علت افزایش قابل توجه اپیدرم در گروه مورد‌ را بتوان به اثرات محرک تقسیم سلولی نسبت داد. دوز نامناسب تابش و حتی نا توانایی لیزر کم توان برای مهار سیستم ایمنی به تنهایی می‌توانند از علل عدم موفقیت مطالعه فوق باشد.
     
نوع مطالعه: پژوهشي | موضوع مقاله: عمومى
دریافت: 1385/6/15 | انتشار: 1384/6/24

بازنشر اطلاعات
Creative Commons License این مقاله تحت شرایط Creative Commons Attribution-NonCommercial 4.0 International License قابل بازنشر است.

کلیه حقوق این وب سایت متعلق به فصلنامه علمی - پژوهشی لیزر پزشکی می باشد.

طراحی و برنامه نویسی : یکتاوب افزار شرق

© 2024 CC BY-NC 4.0 | Journal of Lasers in Medicine

Designed & Developed by : Yektaweb