دوره 4، شماره 2 - ( مهر 1384 )
جلد 4 شماره 2 صفحات 15-9 |
برگشت به فهرست نسخه ها
Download citation:
BibTeX | RIS | EndNote | Medlars | ProCite | Reference Manager | RefWorks
Send citation to:
BibTeX | RIS | EndNote | Medlars | ProCite | Reference Manager | RefWorks
Send citation to:
افشارپاد میترا ، قبادی احسان ، توتونچی سروناز ، عسگری مسعود ، افشارپاد ماندانا ، علی نقی زاده محمدرضا . بررسی تاثیر تابش لیزر کم توان هلیوم – نئون (8/632 نانومتر) بر میزان رد پیوند پوستی. فصلنامه علمی پژوهشی لیزر در پزشکی. 1384; 4 (2) :9-15
چکیده: (19962 مشاهده)
هدف: رد مزمن پیوند یک روند ایمونولوژیک است که در دسته واکنش‌های حساسیت تاخیری نوع IV دسته بندی می‌شود و اصلی‌ترین فاکتور شناخته شده در این روند سلولهای لنفوسیتی TCD 8+ و لنفوکاینهای مترشحه از لنفوسیتها می‌باشند. با توجه به اثرات مدولاتوری سیستم ایمنی، لیزرهای کم توان شاید بتوان از این اثر در کاهش سطح این لنفوکاینها و ممانعت از رد استفاده کرد.روش بررسی: در شرایط استریل پوست از پشت موش MNL به پشت موش BALB/c پیوند شد و به دو گروه مورد و شاهد تقسیم شدند. موشهای گروه مورد روزانه تحت تابش لیزر کم توان هلیم - نئون (8/632 نانومتر و J/cm2 4) به مدت 14 روز قرار گرفتند. بررسی ماکروسکوپی و میکروسکوپی در روزهای 3 ،5 ،10 و 15 انجام شد.یافته‌ها: نتایج در جداول 1 تا 9 آورده شده اند که از این بین تنها ضخیم شدگی اپیذرم در گروه case به گونه significant از گروه کنترل بیشتر بود.نتیجه‌گیری: شاید علت افزایش قابل توجه اپیدرم در گروه مورد را بتوان به اثرات محرک تقسیم سلولی نسبت داد. دوز نامناسب تابش و حتی نا توانایی لیزر کم توان برای مهار سیستم ایمنی به تنهایی می‌توانند از علل عدم موفقیت مطالعه فوق باشد.
| بازنشر اطلاعات | |
 |
این مقاله تحت شرایط Creative Commons Attribution-NonCommercial 4.0 International License قابل بازنشر است. |
